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氧化擴散爐應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及...

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公司名稱：		公司類型：	企業(yè)單位 (制造商)
所在地：	青島市	公司規(guī)模：	1-49人
注冊資本：	300萬人民幣	注冊年份：	2016

資料認證：

經(jīng)營模式：

制造商

經(jīng)營范圍：

氧化擴散爐應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規(guī)模集成電路制造等領(lǐng)域?qū)M行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸.LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大，故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率。真空擴散爐應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、大規(guī)模集成電路制造等領(lǐng)域?qū)M行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。

銷售的產(chǎn)品：

氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結(jié)爐,氫氧點火爐,半導(dǎo)體用真空燒結(jié)爐

采購的產(chǎn)品：

氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結(jié)爐,氫氧點火爐,半導(dǎo)體用真空燒結(jié)爐

主營行業(yè)：

其它加工機械

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